Ti:sapphire laser ablation of silicon in different ambients

Füle Miklós Jenő; Gárdián Anett; Csontos János; Budai Judit; Tóth Zsolt: Ti:sapphire laser ablation of silicon in different ambients.
JOURNAL OF LASER MICRO NANOENGINEERING, 9 (2). pp. 119-125. ISSN 1880-0688 (2014)

[thumbnail of Ti-S ablation of Si_Fule.pdf]
Előnézet
Szöveg
Ti-S ablation of Si_Fule.pdf - Megjelent verzió

Download (2MB) | Előnézet
Mű típusa: Folyóiratcikk
Folyóirat/kiadvány címe: JOURNAL OF LASER MICRO NANOENGINEERING
Publikáció dátuma: 2014
Kötet: 9
Szám: 2
Oldalak: pp. 119-125
ISSN: 1880-0688
Kar/Egység: Természettudományi és Informatikai Kar
Intézmény: Szegedi Tudományegyetem
Nyelv: angol
MTMT rekordazonosító: 2704313
DOI azonosító: https://doi.org/10.2961/jlmn.2014.02.0008
Dátum: 2017. Máj. 12. 10:12
Utolsó módosítás: 2019. Okt. 31. 14:15
URI: http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/9234
Hivatkozások száma a Web of Science® -ben: 1 Idéző cikkek megtekintése a Web of Science® felületén

Actions (login required)

Tétel nézet Tétel nézet

Letöltések

Letöltések havi bontásban az elmúlt egy évben