Laser induced backside wet etching of fused silica: absorption coefficient dependence

Vass Csaba; Hopp Béla; Smausz Tomi: Laser induced backside wet etching of fused silica: absorption coefficient dependence.
PROCEEDINGS OF SPIE - THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, 5131. pp. 200-204. ISSN 0277-786X (2003)

[thumbnail of 2003_Vass_Proceedings_of_SPIE_5131_pp._200_204_u.pdf]

Előnézet

Szöveg
2003_Vass_Proceedings_of_SPIE_5131_pp._200_204_u.pdf - Megjelent verzió
Download (235kB) | Előnézet

Szerző azonosítók:

Vass Csaba MTMT

Hopp Béla MTMT

Smausz Tomi MTMT

Mű típusa:

Folyóiratcikk

Folyóirat/kiadvány címe:

PROCEEDINGS OF SPIE - THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING

Publikáció dátuma:

2003

Kötet:

5131

Oldalak:

pp. 200-204

ISSN:

0277-786X

Kiadó:

SPIE - The International Society for Optical Engineering

Kar/Egység:

Természettudományi Kar

Intézmény:

Szegedi Tudományegyetem (2000-)

Nyelv:

angol

MTMT rekordazonosító:

1084034

DOI azonosító:

https://doi.org/10.1117/12.513623

Dátum:

2017. Máj. 03. 10:22

Utolsó módosítás:

2019. Okt. 17. 14:47

URI:

http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/9099

Hivatkozások száma a Web of Science® -ben: 1

Idéző cikkek megtekintése a Web of Science® felületén

Actions (login required)

Tétel nézet

Bejelentkezés szerkesztőként.
Itt kérhet technikai vagy tartalmi segítséget: publicatio AT ek.szte.hu
Az SZTE Klebelsberg Könyvtár és Levéltár által működtetett SZTE Publicatio Repozitórium megkapta az MTMT Repozitórium Minősítő Bizottságától a "Minősített repozitórium" tanúsítványt.
SZTE Publicatio Repozitórium is powered by EPrints 3 which is developed by the School of Electronics and Computer Science at the University of Southampton. More information and software credits.