104 nm Period Grating Fabrication in Fused Silica by Immersion Two-beam Interferometric Laser Induced Backside Wet Etching Technique

Vass Csaba, Osvay Károly, Hopp Béla, Bor Zsolt: 104 nm Period Grating Fabrication in Fused Silica by Immersion Two-beam Interferometric Laser Induced Backside Wet Etching Technique.
APPLIED PHYSICS A - MATERIALS SCIENCE AND PROCESSING, 87 (4). pp. 611-613. ISSN 0947-8396 (2007)

[img] Szöveg
2007_Vass_Appl_Phys_A_87_611_613_Rapid_comm_u.pdf - Megjelent verzió
Korlátozott. SZTE polgárok számára hozzáférhető, repozitóriumba való regisztráció és belépés után

Download (221kB) | Másolat kérése
Mű típusa: Cikk
Kar: Természettudományi és Informatikai Kar
Intézmény: Szegedi Tudományegyetem
SWORD Depositor: MTMT SWORD
Felhasználó: Csonka Petra Barbara
A mű MTMT azonosítója: 1083961
DOI azonosító: 10.1007/s00339-007-3891-2
Dátum: 2017. Máj. 12. 14:50
Utolsó módosítás: 2017. Máj. 12. 14:50
URI: http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/9098

Actions (login required)

Tétel nézet Tétel nézet

Letöltések

Letöltések havi bontásban az elmúlt egy évben