Vass Csaba; Sebők Dániel; Hopp Béla:
Comparing Study of Subpicosecond And Nanosecond Wet Etching of Fused Silica.
APPLIED SURFACE SCIENCE, 252 (13).
pp. 4768-4772.
ISSN 0169-4332
(2006)
Szöveg
2006_Vass_ApplSurfSci_252_4768_4772_u.pdf - Megjelent verzió Korlátozott hozzáférés: SZTE polgárok számára hozzáférhető, repozitóriumba való belépés után Download (255kB) | Másolat kérése |
Mű típusa: | Folyóiratcikk |
---|---|
Folyóirat/kiadvány címe: | APPLIED SURFACE SCIENCE |
Publikáció dátuma: | 2006 |
Kötet: | 252 |
Szám: | 13 |
Oldalak: | pp. 4768-4772 |
ISSN: | 0169-4332 |
Kiadó: | Elsevier |
Kar/Egység: | Természettudományi Kar |
Intézmény: | Szegedi Tudományegyetem |
Nyelv: | angol |
MTMT rekordazonosító: | 1083954 |
DOI azonosító: | https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2005.07.118 |
Dátum: | 2017. Máj. 12. 14:48 |
Utolsó módosítás: | 2019. Okt. 16. 11:21 |
URI: | http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/9096 |
Hivatkozások száma a Web of Science® -ben: 24 | Idéző cikkek megtekintése a Web of Science® felületén |
Actions (login required)
Tétel nézet |