English

Comparing Study of Subpicosecond And Nanosecond Wet Etching of Fused Silica

Vass Csaba; Sebők Dániel; Hopp Béla: Comparing Study of Subpicosecond And Nanosecond Wet Etching of Fused Silica.
APPLIED SURFACE SCIENCE, 252 (13). pp. 4768-4772. ISSN 0169-4332 (2006)

[thumbnail of 2006_Vass_ApplSurfSci_252_4768_4772_u.pdf] Szöveg
2006_Vass_ApplSurfSci_252_4768_4772_u.pdf - Megjelent verzió
Korlátozott hozzáférés: SZTE polgárok számára hozzáférhető, repozitóriumba való belépés után
Download (255kB) | Másolat kérése
Szerző azonosítók:
Vass Csaba MTMT
Sebők Dániel MTMT
Hopp Béla MTMT
Mű típusa: Folyóiratcikk
Folyóirat/kiadvány címe: APPLIED SURFACE SCIENCE
Publikáció dátuma: 2006
Kötet: 252
Szám: 13
Oldalak: pp. 4768-4772
ISSN: 0169-4332
Kiadó: Elsevier
Kar/Egység: Természettudományi Kar
Intézmény: Szegedi Tudományegyetem (2000-)
Nyelv: angol
MTMT rekordazonosító: 1083954
DOI azonosító: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2005.07.118
Dátum: 2017. Máj. 12. 14:48
Utolsó módosítás: 2019. Okt. 16. 11:21
URI: http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/9096
Hivatkozások száma a Web of Science® -ben: 24 Idéző cikkek megtekintése a Web of Science® felületén

Actions (login required)

Tétel nézet Tétel nézet
Repozitóriumi letöltési statisztika

Letöltések

Letöltések havi bontásban az elmúlt egy évben

Bejelentkezés szerkesztőként.
Itt kérhet technikai vagy tartalmi segítséget: publicatio AT ek.szte.hu
Az SZTE Klebelsberg Könyvtár és Levéltár által működtetett SZTE Publicatio Repozitórium megkapta az MTMT Repozitórium Minősítő Bizottságától a "Minősített repozitórium" tanúsítványt.
SZTE Publicatio Repozitórium is powered by EPrints 3 which is developed by the School of Electronics and Computer Science at the University of Southampton. More information and software credits.