Pan Yunxiang; Ehrhardt Martin; Lorenz Pierre; Han Bing; Hopp Béla; Vass Csaba; Ni Xiaowu; Zimmer Klaus:
Influence of the confinement on laser-induced dry etching at the rear side of fused silica.
APPLIED PHYSICS A - MATERIALS SCIENCE AND PROCESSING, 122 (4).
Terjedelem: 9 p.-Azonosító: 365.
ISSN 0947-8396
(2016)
Szöveg
2016_Pan_Appl.Phys.A_122_365_u.pdf - Megjelent verzió Korlátozott hozzáférés: SZTE polgárok számára hozzáférhető, repozitóriumba való belépés után Download (4MB) | Másolat kérése |
Mű típusa: | Folyóiratcikk |
---|---|
Folyóirat/kiadvány címe: | APPLIED PHYSICS A - MATERIALS SCIENCE AND PROCESSING |
Publikáció dátuma: | 2016 |
Kötet: | 122 |
Szám: | 4 |
Oldalak: | Terjedelem: 9 p.-Azonosító: 365 |
ISSN: | 0947-8396 |
Kiadó: | Springer-Verlag |
Kar/Egység: | Természettudományi és Informatikai Kar |
Intézmény: | Szegedi Tudományegyetem |
Nyelv: | angol |
MTMT rekordazonosító: | 3043506 |
DOI azonosító: | https://doi.org/10.1007/s00339-016-9925-x |
Dátum: | 2017. Máj. 11. 16:58 |
Utolsó módosítás: | 2019. Okt. 17. 13:50 |
URI: | http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/9089 |
Hivatkozások száma a Web of Science® -ben: 5 | Idéző cikkek megtekintése a Web of Science® felületén |
Actions (login required)
Tétel nézet |