Influence of the confinement on laser-induced dry etching at the rear side of fused silica

Pan Yunxiang; Ehrhardt Martin; Lorenz Pierre; Han Bing; Hopp Béla; Vass Csaba; Ni Xiaowu; Zimmer Klaus: Influence of the confinement on laser-induced dry etching at the rear side of fused silica.
APPLIED PHYSICS A - MATERIALS SCIENCE AND PROCESSING, 122 (4). Terjedelem: 9 p.-Azonosító: 365. ISSN 0947-8396 (2016)

[thumbnail of 2016_Pan_Appl.Phys.A_122_365_u.pdf] Szöveg
2016_Pan_Appl.Phys.A_122_365_u.pdf - Megjelent verzió
Korlátozott hozzáférés: SZTE polgárok számára hozzáférhető, repozitóriumba való belépés után

Download (4MB) | Másolat kérése
Mű típusa: Folyóiratcikk
Folyóirat/kiadvány címe: APPLIED PHYSICS A - MATERIALS SCIENCE AND PROCESSING
Publikáció dátuma: 2016
Kötet: 122
Szám: 4
Oldalak: Terjedelem: 9 p.-Azonosító: 365
ISSN: 0947-8396
Kiadó: Springer-Verlag
Kar/Egység: Természettudományi és Informatikai Kar
Intézmény: Szegedi Tudományegyetem
Nyelv: angol
MTMT rekordazonosító: 3043506
DOI azonosító: https://doi.org/10.1007/s00339-016-9925-x
Dátum: 2017. Máj. 11. 16:58
Utolsó módosítás: 2019. Okt. 17. 13:50
URI: http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/9089
Hivatkozások száma a Web of Science® -ben: 5 Idéző cikkek megtekintése a Web of Science® felületén

Actions (login required)

Tétel nézet Tétel nézet

Letöltések

Letöltések havi bontásban az elmúlt egy évben