Transfer of photolithographic patterns by excimer laser ablation of polymers

Zimmer Klaus; Zajadacz Joachim; Ehrhardt Martin; Lorenz Pierre; Smausz Kolumbán Tamás; Hopp Béla: Transfer of photolithographic patterns by excimer laser ablation of polymers.
APPLIED SURFACE SCIENCE ADVANCES, 27. ISSN 2666-5239 (2025)

[thumbnail of KlauscikkApplSurfSci.pdf]
Előnézet
Szöveg
KlauscikkApplSurfSci.pdf - Megjelent verzió

Download (3MB) | Előnézet
Szerző azonosítók:
Zimmer Klaus
Zajadacz Joachim
Ehrhardt Martin
Lorenz Pierre
Smausz Kolumbán Tamás MTMT
Hopp Béla MTMT
Mű típusa: Folyóiratcikk
Folyóirat/kiadvány címe: APPLIED SURFACE SCIENCE ADVANCES
Publikáció dátuma: 2025
Kötet: 27
Terjedelem: 8
Közlemény azonosító: 100754
ISSN: 2666-5239
Kar/Egység: Természettudományi és Informatikai Kar
Intézmény: Szegedi Tudományegyetem (2000-)
Nyelv: angol
MTMT rekordazonosító: 36131904
DOI azonosító: https://doi.org/10.1016/j.apsadv.2025.100754
Dátum: 2025. Nov. 20. 08:38
Utolsó módosítás: 2025. Nov. 20. 08:38
URI: http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/38311

Actions (login required)

Tétel nézet Tétel nézet

Letöltések

Letöltések havi bontásban az elmúlt egy évben