Horváth Bence; Ormos Pál; Kelemen Lóránd:
Nearly Aberration-Free Multiphoton Polymerization into Thick Photoresist Layers.
MICROMACHINES, 8 (7).
Terjedelem: 9-Azonosító: 219.
ISSN 2072-666X
(2017)
Előnézet |
Szöveg
Cikk_Micromachines.pdf - Megjelent verzió Download (600kB) | Előnézet |
| Mű típusa: | Folyóiratcikk |
|---|---|
| Folyóirat/kiadvány címe: | MICROMACHINES |
| Publikáció dátuma: | 2017 |
| Kötet: | 8 |
| Szám: | 7 |
| Oldalak: | Terjedelem: 9-Azonosító: 219 |
| ISSN: | 2072-666X |
| Kar/Egység: | Nem SZTE egység |
| Intézmény: | Más intézmény |
| Nyelv: | angol |
| MTMT rekordazonosító: | 3257987 |
| DOI azonosító: | https://doi.org/10.3390/mi8070219 |
| Dátum: | 2021. Nov. 08. 08:50 |
| Utolsó módosítás: | 2022. Okt. 28. 12:26 |
| URI: | http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/22828 |
| Hivatkozások száma a Web of Science® -ben: 15 | Idéző cikkek megtekintése a Web of Science® felületén |
Actions (login required)
 |
Tétel nézet |
Repozitóriumi letöltési statisztika
Repozitóriumi letöltési statisztika
