English

Nearly Aberration-Free Multiphoton Polymerization into Thick Photoresist Layers

Horváth Bence; Ormos Pál; Kelemen Lóránd: Nearly Aberration-Free Multiphoton Polymerization into Thick Photoresist Layers.
MICROMACHINES, 8 (7). Terjedelem: 9-Azonosító: 219. ISSN 2072-666X (2017)

[thumbnail of Cikk_Micromachines.pdf]
Előnézet
 Szöveg
Cikk_Micromachines.pdf - Megjelent verzió
Download (600kB) | Előnézet
Szerző azonosítók:
Horváth Bence MTMT
Ormos Pál MTMT
Kelemen Lóránd MTMT
Mű típusa: Folyóiratcikk
Folyóirat/kiadvány címe: MICROMACHINES
Publikáció dátuma: 2017
Kötet: 8
Szám: 7
Oldalak: Terjedelem: 9-Azonosító: 219
ISSN: 2072-666X
Kar/Egység: Nem SZTE egység
Intézmény: Más intézmény
Nyelv: angol
MTMT rekordazonosító: 3257987
DOI azonosító: https://doi.org/10.3390/mi8070219
Dátum: 2021. Nov. 08. 08:50
Utolsó módosítás: 2022. Okt. 28. 12:26
URI: http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/22828
Hivatkozások száma a Web of Science® -ben: 16 Idéző cikkek megtekintése a Web of Science® felületén

Actions (login required)

Tétel nézet Tétel nézet
Repozitóriumi letöltési statisztika

Letöltések

Letöltések havi bontásban az elmúlt egy évben

Bejelentkezés szerkesztőként.
Itt kérhet technikai vagy tartalmi segítséget: publicatio AT ek.szte.hu
Az SZTE Klebelsberg Könyvtár és Levéltár által működtetett SZTE Publicatio Repozitórium megkapta az MTMT Repozitórium Minősítő Bizottságától a "Minősített repozitórium" tanúsítványt.
SZTE Publicatio Repozitórium is powered by EPrints 3 which is developed by the School of Electronics and Computer Science at the University of Southampton. More information and software credits.